Plasma X
Surface Activation의 새 지평을 여는 Plasma X
국내 최초 독일 Clean Implant Foundation의 엄격한 인증 절차 통과한 임플란트 표면 처리 장치
Plasma X vs UV
Cleaning & Activation
Plasma X의 강한 에너지로 hydrocarbon을 완벽히 제거하여 제조 공정상의 불순물을 제거 가능
빈틈없는 표면 처리
Surface activation의 핵심은 강한 에너지를 모든 표면에 정확히 전달하는 것
Faster integration
・단백질 흡착률 2.23배 증가
・조골세포 증식력 75% 향상
Compact Size, Intuitive Display and Easy to use/maintain
Technical Specification
Activating Process
※재생・활성 절차
- 준비 공정: 앰플의 준비 및 시스템 상태를 확인하여 플라즈마 표면처리를 준비하는 단계입니다.
- 1단계(플라즈마 표면처리) : 진공 상태에서 임플란트 표면에서 플라즈마 발생 및 표면처리로 불순물 제거하고 및 친수성 향상을 시킵니다.
- 2단계(진공 정화) : 플라즈마 처리를 통해 발생한 탄화 수소 등의 불순물을 진공 배기하여 임플란트가 진공 상태에서 성능 보존성을 확보합니다.
Plasma X vs. Competitors
